科技信息

消息称 ASML 来岁推出 2nm 芯片制造装备，英特尔已采购 6 台

IT之家 12 月 19 日消息，SamMobile 消息称，ASML 将于未来几个月内推出用于 2nm 制程节点的芯片制造装备，将数值孔径（NA）光学性能从 0.33 进步到 0.55，而三星操持在 2025 年底开始生产 2nm 芯片。据称，ASML 来

IT之家 12 月 19 日消息，SamMobile 消息称，ASML 将于未来几个月内推出用于 2nm 制程节点的芯片制造装备，将数值孔径（NA）光学性能从 0.33 进步到 0.55，而三星操持在 2025 年底开始生产 2nm 芯片。

据称，ASML 来岁规划产能仅有 10 台，而英特尔已经预订了此中 6 台，不外 ASML 操持在未来几年内将此装备产能进步到每年 20 台。

现在，ASML 官网列出的 EUV 光刻机仅有两款 ——NXE:3600D 和 NXE:3400C，均配备 0.33 NA的反射式投影光学器件及13.5nm EUV 光源，分别实用于 3/5nm 和 5/7nm 芯片制造。

▲NXE:3600D

ASML 发言人曾透露，EXE:5200 是 ASML 下一代高 NA 体系，具有更高的光刻分辨率，可将芯片缩小 1.7 分之一，同时密度增长至 2.9 倍。

▲ASML 高 NA 体系蹊径图

之前的报道体现，ASML 第一台 0.55 NA EUV 光刻机操持于 2025 年后量产，第一台将交付给英特尔。

英特尔发言人称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家。与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包罗更高的生产率等等。

根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的推测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（IT之家备注：当前约 21.42 亿元人民币）。

收藏邀请

上一篇：消息称三星Galaxy S24 Ultra手机拍摄RAW照片，默认升至24MP下一篇：浙商证券：2026年国产AI芯片有望成为主导

我有任务需求要发布

专业服务商主动承接

快速解决你的需求

专注IT众包服务

平台只专注IT众包，服务数十万用户，快速解决需求

资金安全

交易资金托管平台，保障资金安全，确认完成再付款

实力商家

优秀软件人才汇集，实力服务商入驻，高效解决需求

全程监管

交易过程中产生纠纷，官方100%介入受理，交易无忧

今日头条