IT之家 12 月 14 日消息,根据韩媒 The Elec 报道,日本住友化学子公司东友细密化学(Dongwoo Fine-Chem)关照韩国半导体公司,表现由于原质料和劳动力费用不停上涨,KrF 和 L 系列光刻胶供货代价将上涨 10-20%。 IT之家注:光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射,其溶解度发生变革的耐蚀剂刻薄膜质料。 光刻胶是光刻工艺中的关键质料,紧张应用于积体电路和分立器件的眇小图形加工。 光刻胶品种浩繁,本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶,是将来国表里厂商的紧张竞争市场之一。 如今光刻胶市场不绝由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等紧张制造商主导。 光刻胶行业必要高度专业化,涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方,每家公司都将其视为商业机密。 巨大的技能壁垒,加上从实行室试验到市场生产对纯度和性能的需求,使得整个产物开辟过程既耗时又复杂。 别的,满意客户要求和生产线的调解必要 1 到 3 年的验证,让客户难以转移现有相助的光刻胶公司。 面临技能和以客户为中心的挑衅,光刻胶公司拥有强盛的会商本领。近来光刻胶代价的上涨引发了韩国半导体行业的显着反应。 晶圆代工厂内部人士批评说: 面临不停上涨的光刻胶代价,晶圆代工厂别无选择,只能将部门资源转嫁给客户(无晶圆厂公司)。 东友细密化学进步光刻胶代价,大概会导致晶圆代工厂和无晶圆厂行业的红利本领降落。 |

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