【芯视野】一手、二手装备入口同步承压，光刻机自主自强该怎样破题？

集微网消息，对华先辈半导体制造装备的管制之网，正越收越紧、越撒越广。

2月16日，美国商务部、司法部、FBI、国土安全观察局与12个州的查察官办公室团结组建出口管制执法“特别工作组”，以“打击非法运动者”并掩护先辈半导体制造装备等关键技能不被“民族国家对手”获取。

织密自家网眼的同时，这张对准先辈半导体制造装备商业的大网也已纳入日本、荷兰，外界广泛预计两国将看齐美商务部客岁10月7日新规。

正如中国半导体行业协会严正声明所述，此举如果成为现实，将对中国半导体产业造成巨大伤害。

作为半导体制造装备中公认“最短的短板”，光刻机再次成为各界关注这一标题的焦点，不外遍观行业表里当前堪称汗牛充栋的讨论，在“要做什么”（What）的层面通常过于宏观、流于务虚，对“怎样去做”（How）更甚少着墨。

比装备禁运更巨大的威胁是什么？

回首客岁10月7日以来的不少“专家”观点，通常对美国政府的政策影响和“后手”结构预期不敷，以至于在一步紧似一步的快节奏地缘因素厘革中，颇有“本日割五城，嫡割十城，然后得一夕安寝。起视四境，而秦兵又至矣”的被动感。

按照现在推测，日本、荷兰光刻机对华出口管制标准将是能否实现28纳米以下产物制造。部分高端DUV浸没式光刻机如ASML NXT:2050i，由于具备通过多次曝光等工艺加强方法制造7纳米、乃至5纳米先辈制程产物的技能潜力，因此只管其良率、精度上都无法与EUV光刻机媲美，但此次恐怕将很难幸免于管制罗网。

ASML财报预计，荷兰管制新规草拟见效将必要“许多个月”（many months），因此在2023年内不会产生实质性影响，但这绝不意味着可以或许喘口吻，歇歇脚。这一新规对光刻机的限定是否会涵盖相应零配件和运维服务，现在仍有相当大不确定性，必要引起国内高度关注。

作为技能复杂度极高的装备，光刻机使用过程中必要连续、高强度的运维保障，如定期针对光学镜头磨损举行像差、焦距的调解；不定期更新定标、校正、运动控制的大量软件算法；或根据晶圆厂工艺技能研发需求帮忙改装升级产物，提拔产量或分辨率。

以ASML为例，这家“光刻巨人”配备凌驾9000人的客户支持团队，在中国、韩国等客户麋集地域就近设有维修厂站，2022年服务板块收入就到达了57亿欧元。深入晶圆制造一线的现场工程师团队，也犹如毛细血管一样，源源不绝将根本数据与knowhow反馈给公司研发部分，为新产物迭代创建了坚固根本。

正因云云，如果ASML等厂商被迫克制对特定型号浸没式光刻机的运维支持，即便干系装备已经“抢购”、“抢运”到位，后续的技能升级以致根本运维也有巨大的不确定性。有近二十年半导体厂装备质料实务履历的工程师杜元贺向集微网体现，没有原厂支持，光刻机部分软件功能将无法更新升级，而如果说软件受限还能委曲“拼集”，一旦出现大的故障，专用备件又该从何而来？

外界有观点以为，现在东亚、东南亚地域的二手半导体装备流畅网络可以办理这一标题，然而在美国政府将组建“特别工作组”强化实验的情况下，这一网络的可靠性面对检验。究竟上，2012年、2014年，就先后有两位中国公民因万机仪器（MKS Instruments）敏感装备转售伊朗，而遭美国执法部分外洋诱捕，此中一位还是MKS中国分支机构贩卖司理。值得一提的是，MKS也同样是ASML的告急上游供应商，从这一案例，不难窥见美国一旦“认真起来”，对敏感技能外洋地下市场流畅的控制力。

更进一步预测，杜工向集微网指出，在尝到长处后，美国政府大概会越来越激进地将光刻机等关键焦点半导体装备“武器化”：“这就是高悬在我国半导体古迹上的达摩克里斯之剑。随时都有大概对我举行封锁禁运，如果参照俄乌辩论，我们有任何一个地方违逆大概没有按照美国的意愿行事，这个达摩克里斯之剑随时都会砸到我们的头上。何止DUV光刻机，哪怕美国，日本，荷兰I线光刻机，包罗二手光刻机禁运，我们也将非常被动。”

别的，在光刻工艺量测装备范畴，ASML与KLA也具有把持性上风。在KLA业已受限的情况下，ASML量测装备接着断供，影响或将向成熟制程范畴进一步扩散。

破解卡脖子难关，航发带来的启示

短期来看，在日本、荷兰装备出口新规出台前，抓紧时机超量采购是国内卑鄙厂商的当务之急。放眼久远，光刻机等关键半导体装备的自主自强无疑是必由之路。除了胜利，我们别无选择。

不外在当下，怎样实现光刻机的自主自强，舆论场上存在着相当显着的分歧。只管多数有识之士号令依赖新型举国体制突围，但也有难以忽视的声音以为，过多的产业政策干预很难起到假想的作用，国产光刻机在前道制程环节的应用近况，是其焦点论据。

客观地说，我国高端光刻机研发与产业化近况，简直与当下的应用急需存在肯定落差，比方科技部2017年印发的《“十三五”先辈制造技能范畴科技创新专项规划》明白提出，光刻机及焦点部件范畴应实现“研制28纳米浸没式光刻机产物，进入大生产线稽核；开展配套光学体系、双工件台等焦点部件产物研发，并集成到整机。”

为什么历经02专项和“大基金”十余年接力，光刻机的希望依然不尽如人意？围绕这一标题，浩繁所谓“专家”开出了令人眼花缭乱的“诊断”和“药方”，却少有人现实梳理过干系投入情况。

究竟上，回望02专项启动之初的2009年，该巨大专项面向天下广泛征集项目，颠末严酷的筛选及“三评两审”立项步调，拟启动54个项目，此中装备整机15项、成套工艺11项、关键质料9项、关键技能与零部件11项、前瞻性研究等8项。

以上全部项目，总投资180多亿元人民币，此中光刻性可以或许分到多大的蛋糕不难想象，而同在2009年，ASML单年的研发投入就到达约45亿元人民币，这还是该公司遭遇产业隆冬，大幅镌汰研发经费的效果。

与菲薄的投入相比，我国光刻机以致更广泛半导体制程装备的自主研发可以或许到达现在的希望，可以说已经堪称“古迹”。不能否认，在02专项和“大基金”的详细推进中，也存在一些不敷，杜工就谈到，国内涵光刻机研发上“有点急功近利，走没有学会就想学跑。效果企业的发展就是根本不牢地震山摇。光刻机慢工出细活，那点投资杯水车薪，指望一个公司能做通光刻机全产业链是不大概的”。

对高技能复杂度产物研发规律熟悉不敷，并非其时半导体范畴所独有，究竟上，本日已经彻底摆脱“卡脖子”痛楚的我国军用航空发动机，十多年前同样存在类似痼疾，以至于行业泰斗感言：“墨守单纯‘办理有无’理念，不恭敬科学规律，反而拦阻发动机技能发展。究竟证明，质料尚未研究乐成，抗疲惫技能尚未研究，使关键根本构件成为无源之水。未研究关键根本构件就装配发动机，使发动机成为无本之木。在型号研制中‘质料、工艺攻关’、‘型号带质料’、‘型号带制造’、‘筹划牵头质料、制造技能’等不科学理念和急于求成、急功近利的方法不但研制周期较国外长，各种风险会合在型号上。”

我国航空工业之以是可以或许突破军用航发这一同样多学科高度综合的当代制造业结晶，关键在于咬牙吃劲的关头可以或许降服走捷径的勾引，果断改变通过试验验证，基于研仿原型逐次修改的传统研制方法，咬牙走通了一个突破单项关键技能-部件验证-焦点机-验证机-型号研制的完备过程，冲破了0和1之间的反复循环，打开了从10到100的迭代空间。

以此观之，我国光刻机自主自强，大概也应真端庄历一场关键机型完备的正向研发“洗礼”。

杜工也向集微网体现，光刻机的研发应该先学会走路，再学会跑步，与其被美国制裁指挥棒变更，疲于追赶EUV、先辈DUV风口，不妨从根本的KrF以致I线光刻机扎踏实实吃透，真正创建起技能和体系的迭代根本，而这一过程，正是新型举国体制大有作为的舞台。

他同样以军工范畴两弹一星为例，指出类似中心专委、国防科工委等高层级专责机构在巨大科技攻关中必不可少：“国家不但仅应该规划光刻机研发的效果，更必须亲历亲为管理过程，单靠一家企业‘揭榜挂帅’，坐比及点验收，不得当光刻机如许高度复杂的体系，必须要调和全产业链，会合攻关突破，对于光刻机的告急零部件和体系集成，应该国家有同一的调和调治，大学科研院所，国有民营公司都要加入进来，发挥各自的上风做关键零部件，然后由有气力的公司举行体系调和，先买通上卑鄙供应链，再体系集成。”

结语

面对拍向半导体产业链的“惊涛骇浪”，我们已无需再抱有过多荣幸、惦记和理想，光刻机为代表的关键焦点装备自主自强，是对外部霸凌的最有力回复。

已然化身科技自主自强进程“试金石”的光刻机，当下无疑承载了太多应有或不应有、公道或不公道的焦急辅导，但从另一个角度看，如许的哗闹，恰恰也折射出全社会对技能进步的渴望和期待，如许的志气和心气在，终将推动我们不屈不挠地抵达胜利彼岸。