南大光电：三款ArF光刻胶已通过验证 树脂等告急质料自主研发

光刻胶是集成电路晶圆生产的告急物料，国产替换备受关注。6月20日，在光刻胶范畴取得渴望的南大光电(300346)得到数十家机构的团结调研。

南大光电在调研记载中称，公司在光刻胶技术研发方面，始终对峙从原质料到产物的完全自主化。光刻胶研发中央具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶质料的本领，可以大概实现从光刻胶原质料到光刻胶产物及配套质料的全部自主化。

据相识，光刻胶是光刻工艺中的焦点质料，由于生产工艺复杂，对纯度要求高，必要恒久的研发积累，具有极高的技术壁垒。根据质料智链的统计数据，2022年全球光刻胶行业会合度前四名到达了75%，根本形成了寡头把持的竞争格局。现在，全球光刻胶市场重要被日本和美国公司把持，此中日企全球市占率超80%，处于绝对领先职位。尤其是在高端光刻胶范畴，这种寡头把持格局更加显著。因此，我国的光刻胶发展，备受外界关注。

此次机构调研前，即6月18日，南大光电在互动平台表示，公司研发的多款ArF光刻胶，正在国内重要集成电路芯片制造企业举行验证。同时，南大光电还指出，现在通过验证的三款ArF光刻胶，有少量贩卖，质量稳固。具体量产进度需根据客户订单环境确定。公司正加速推进产物验证和市场拓展工作，夺取早日实现量产。

据悉，半导体光刻胶需求结构，ArF和KrF占据主导职位。根据智研咨询的统计数据，2022年全球半导体光刻胶需求结构较为会合，此中ArF和KrF光刻胶需求占比居前，分别为38%和34%。我国光刻胶2022年需求结构与全球根本保持同等，ArF和KrF光刻胶，也是需求最茂盛的两个品种。据质料智链数据，我国的光刻胶国产化率广泛较低，此中，KrF光刻胶和ArF光刻胶的自给率仅1%。

值得一提的是，高端光刻胶的保质期很短，通常只有6个月左右，乃至更短。因此，一旦遇到商业辩说或自然灾难，势必会对我国集成电路财产造成严肃倒霉影响。因此，尽快实现高端光刻胶质料的全面国产化和财产化，具有非常告急的战略意义和经济代价。

现在，公司三款ArF光刻胶已经通过验证，原质料怎样办理？对此，南大光电在调研中表示，光刻胶原质料方面，告急的单体、树脂等由公司自主研发；其他国内具备稳固供应本领的质料，公司通过外部采购，以节约内部技术资源。

除了备受关注的光刻胶，南大光电也是国内半导体范畴的前驱体质料告急供应商。年报体现，公司掌握了多种ALD/CVD前驱体质料的合成、纯化、分析检测和封装技术，建成烈?纯半导体前驱体的自主生产线和适应半导体风致要求的管理体系，突破了国外技术把持。

对于前驱体业务，南大光电表示，颠末多年的技术研发和财产化，公司前驱体业务已经实现晶圆制造所需的硅前驱体/金属前驱体、高K前驱体/低K前驱体等重要品类的全覆盖，并乐成导入国内领先的芯片制造企业量产制程，成为焦点前驱体质料范畴推进国产自主可控的“主力军”。2023年，公司近10款前驱体产物实现贩卖，贩卖额初次破亿，业绩倍增。未来，随着产物品类不断扩充，与关键客户的深度合作，前驱体业务将成为公司告急的业绩增长点。