国内半导体行业装备需求增长，拓荆科技客岁净利预计最多增近5倍

拓荆科技 视觉中国 资料图

1月29日，国内半导体专用装备厂商拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”，688072）公告披露2022年年度业绩，经财务部门开端测算，预计公司2022年年度实现业务收入16.50亿元至17.20亿元，与上年同期相比（同比）增长 8.92亿元至9.62亿元，同比增长117.69%至126.92%。

公告称，预计公司2022年年度实现归属于母公司全部者的净利润为3.30亿元至4.00亿元，同比增长2.62亿元至3.32亿元，同比增长381.85%至484.06%。

经财务部门开端测算，拓荆科技预计2022年年度实现归属于母公司全部者扣除非经常性损益后净利润为1.60亿元至1.90亿元，与上年同期相比实现扭亏为盈，同比增长2.42亿元至2.72亿元。

拓荆科技称，公司预计2022年年度业绩较上年同期大幅增长，其告急起因于：受益于国内半导体行业良好的发展态势，国内半导体行业装备需求增长，同时公司继续加大产物研发投入，产物结构不绝优化，产物竞争力连续加强，进一步拓展客户群体，本年贩卖订单大幅增长，业务收入维持高增长趋势。

别的，拓荆科技称，在公司连续加大研发投入的环境下，期间费用率有所降落，规模效应驱动公司红利水平进步，归属于上市公司股东的净利润和归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比有较大幅度提拔。

拓荆科技创建于2010年4月，总部位于沈阳市浑南区，是国家高新技能企业，告急从事高端半导体专用装备的研发、生产、贩卖与技能服务。公司聚焦研发和生产半导体薄膜沉积装备，该装备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主装备。

据官网先容，该公司在北京、上海、海宁、美国创建四家子公司，产物已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、中国台湾等20多个地区的60条生产线。告急产物包罗等离子体加强化学气相沉积（PECVD）装备、原子层沉积（ALD）装备和次常压化学气相沉积（SACVD）装备三个产物系列，拥有自主知识产权，技能指标到达国际同类产物先辈水平，公司产物已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED表现等高端技能范畴。

2022年4月，拓荆科技正式登岸科创板。自上市以来，该公司股价已累计上涨近260%。